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EHC LUP300‑56 紫外线偏振曝光装置

简要描述:EHC LUP300‑56 紫外线偏振曝光装置面向各种需要偏振紫外线曝光的应用开发。目前主要用于液晶光取向工艺中的偏振曝光实验及研究开发。随着紫外线敏感型材料应用的增加,对其他各类材料进行偏振紫外线照射及研究其反应也具有重要意义。本设备旨在满足相关科研与开发人员的实验需求。

基础信息

产品型号

lup300‑56

厂商性质

代理商

更新时间

2026-10-15

浏览次数

27
详细介绍
品牌其他品牌价格区间面议
产地类别进口应用领域化工,电子/电池,综合,半导体,机械设备

EHC LUP300‑56 紫外线偏振曝光装置

01  主要用途

液晶光取向  用于液晶取向工艺的紫外线偏振曝光。

紫外线敏感材料  用于紫外线敏感型材料的偏振曝光研究。

多种基材  用于塑料、无机薄膜、金属等材料的偏振曝光实验。

02  产品介绍

EHC LUP300‑56 紫外线偏振曝光装置面向各种需要偏振紫外线曝光的应用开发。目前主要用于液晶光取向工艺中的偏振曝光实验及研究开发。随着紫外线敏感型材料应用的增加,对其他各类材料进行偏振紫外线照射及研究其反应也具有重要意义。本设备旨在满足相关科研与开发人员的实验需求。

03  主要技术规格

项目

技术参数

设备型号

LUP300-56

光源

300 W 汞氙灯(Hg + Xe Lamp)

光谱分布

参见下方汞氙灯辐射光谱图

偏振度

98%(仅 S 偏振光)

辐照度分布偏差

±7%

平行度

±3%

有效照射面积

30 mm × 30 mm

工件载物台

40 mm × 40 mm;H 方向可倾斜 30°

  说明:如需更大照射面积的偏振曝光装置,请另行向制造商咨询。

04  紫外线辐照强度

汞氙灯辐射光谱各测量位置对应的辐照强度如下。原图已注明:光谱曲线高度与实际测量值不同。

EHC LUP300‑56 紫外线偏振曝光装置

05  辐照度与偏振度的测试方法

辐照度评价采用 5 枚宽带滤光片和硅光电二极管。依据滤光片透射率与硅光电二极管的光谱响应灵敏度,计算各波长范围内的辐照度。所用硅光电二极管按照日本电子技术综合研究所(电总研)的光谱响应标准进行了校准。

测量结果显示,在 250~295 nm 波段内,辐照度为 11.57 mW/cm²。此外,使用格兰-汤姆逊棱镜(Glan–Thompson Prism)作为检偏器进行评价,确认该波段的偏振度为 98%(仅 S 偏振光)。

06  设备外形尺寸

原始资料中提供正视图、侧视图和主要尺寸标注:长约 700、宽约 280、高约 600(按常用机械图纸表示,推定单位为 mm,正式使用请与厂家确认)。

EHC LUP300‑56 紫外线偏振曝光装置

图 3  设备外形尺寸示意图(原资料尺寸图)

07  典型应用

① 液晶光取向工艺中的紫外线偏振曝光实验;② 紫外线敏感型材料的偏振曝光实验;③ 塑料、无机膜、有机膜、金属等材料的偏振曝光研究。


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