2026
4-14DmitriLanevski研究团队在《MeasurementScienceandTechnology》期刊上发表题为“Determiningtheshapeofreflectancereferencesamplesforcurvedsurfacereflectors”的研究,该研究针对建筑反射隔热材料反射率测量中平面标准样品与实际曲面箔材不匹配的问题,提出了可通过增材制造制备的反射率标准样品表面形状建模方法,并以铝箔为例完成方法验证。摘要不同材质的箔材常被用作反射隔热材料,...
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4-14人工智能计算中心是以人工智能芯片集群为基础的算力基础设施,涵盖机房基建、硬件和软件系统,支撑深度学习模型开发、训练与推理,提供从芯片算力释放到应用使能的全栈能力。传统的通用服务器PCB可能只有十几层。而AI服务器由于集成了多颗高功耗GPU、复杂的供电模块和庞大的显存,其PCB(如UBB主板、OAM加速卡板)层数通常高达20层到40层以上。PCB层数的增加,意味着压合这块PCB所需的CCL芯板(Core)和半固化片(PP)的数量成倍增长。一台AI服务器对CCL的消耗面积远超传统...
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4-8彩色滤光片光刻胶(ColorFilterPhotoresist,CF光刻胶)是显示光刻胶中价值量最大、种类最多的部分。与TFT光刻胶不同,CF光刻胶在光刻成型后会保留在面板内部,直接参与画面的显示。彩色光刻胶(RGBResist):包含红(R)、绿(G)、蓝(B)三种颜色的光刻胶。它们内部添加了纳米级的彩色颜料,光刻成型后构成彩色像素点,是液晶显示器实现色彩的关键。黑色光刻胶(BlackMatrix,BM):用于隔离RGB像素,防止漏光和混色,提升屏幕对比度。黑色光刻胶实验室...
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3-312026年3月,国产半导体材料领域传来重磅消息。鼎龙股份、容大感光、徐州博康三家企业同步宣布重大进展:KrF/ArF光刻胶从技术研发正式迈入规模化量产阶段,长期以来由日美企业主导的市场格局正在被打破。消息一出,光刻胶板块迅速升温,资金关注度明显提升。在这场自主可控的浪潮中,哪些企业值得重点关注?事件背景:光刻胶国产化迎来实质突破受地缘政治影响,日美曾收紧光刻胶对华出口,国内晶圆厂的ArF光刻胶库存一度不足30天。而随着鼎龙股份(300吨)、南大光电(500吨)以及徐州博康的产...
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3-27高速分散乳化机是一种集高速剪切、分散、均质、乳化和溶解功能于一体的多功能流体处理设备,广泛应用于精细化工、食品、制药、化妆品、涂料、油墨及纳米材料等领域,用于制备稳定、均匀、细腻的乳液、悬浮液或膏状产品。其核心工作原理是利用高速旋转的转子(通常转速达3,000–12,000rpm)与精密配合的定子之间形成的狭小间隙,产生强烈的机械剪切力、液力空穴效应和湍流冲击。物料在吸入腔内被迅速卷入,在转定子区域经历数十万次/分钟的剪切与撞击,使液滴或颗粒被破碎至微米甚至亚微米级(可达0....
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3-26高速分散乳化机是一种集高速剪切、分散、均质、乳化和溶解功能于一体的多功能流体处理设备,广泛应用于精细化工、食品、制药、化妆品、涂料、油墨及纳米材料等领域,用于制备稳定、均匀、细腻的乳液、悬浮液或膏状产品。其核心工作原理是利用高速旋转的转子(通常转速达3,000–12,000rpm)与精密配合的定子之间形成的狭小间隙,产生强烈的机械剪切力、液力空穴效应和湍流冲击。物料在吸入腔内被迅速卷入,在转定子区域经历数十万次/分钟的剪切与撞击,使液滴或颗粒被破碎至微米甚至亚微米级(可达0....
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3-19在芯片制造那如同纳米级雕刻的精密世界里,有一种材料虽不起眼,却起着至关重要的作用——光刻胶。它就像传统摄影中的底片,负责记录下掩模版上的电路图案,并精准地转印到硅晶圆上。别看它只是薄薄一层,其背后却隐藏着复杂的化学配方、精密的厚度设计,以及与刻蚀工艺之间环环相扣的配合。而在实际生产中,光刻胶的每一项参数都像是一个可调节的旋钮,工程师通过精细调控这些变量,来确保图形转移的精确度。光刻胶的“配方密码”光刻胶的调配,堪比调制一味复杂的药方,通常包含三大核心组分。首先,聚合物树脂是它...
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3-17在平板显示产业链中,显示光刻胶是关键电子化学品,也是决定面板精度、画质与良率的耗材。区别于半导体光刻胶、PCB光刻胶,显示光刻胶专攻面板制造领域,贯穿TFT-LCD、AMOLED、Mini/MicroLED等全品类显示器件制程,是显示产业自主可控进程中不可忽视的细分赛道。本文为您客观解读显示光刻胶的本质、分类与产业价值。显示光刻胶的标准定义与原理显示光刻胶属于光致抗蚀剂范畴,是由树脂、光引发剂、溶剂及助剂组成的高分子聚合物混合材料,对g-line(436nm)、i-line(...
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