Labodorf光密度计：黑色光刻胶（BM）测试方案

彩色滤光片光刻胶（Color Filter Photoresist, CF光刻胶）是显示光刻胶中价值量最大、种类最多的部分。与TFT光刻胶不同，CF光刻胶在光刻成型后会保留在面板内部，直接参与画面的显示。彩色光刻胶（RGB Resist）： 包含红（R）、绿（G）、蓝（B）三种颜色的光刻胶。它们内部添加了纳米级的彩色颜料，光刻成型后构成彩色像素点，是液晶显示器实现色彩的关键。黑色光刻胶（Black Matrix, BM）：用于隔离RGB像素，防止漏光和混色，提升屏幕对比度。

黑色光刻胶实验室研发工艺流程

1. 涂布

使用透明基板（玻璃、耐热树脂等，可带ITO电极或TFT阵列）。

涂布方式：旋涂、线棒涂布、流延涂布、狭缝涂布、辊涂、喷涂等。

干燥后膜厚目标：0.5～3μm

2. 干燥

减压干燥：真空干燥装置，100 Pa，30秒。

加热干燥：热板或烘箱，110℃加热120秒。

温度过高会分解碱溶性树脂或引发热聚合，温度过低则干燥不均。

3. 曝光

使用负性光掩模，在涂膜上覆盖掩模图案。

光源：超高压汞灯，波长以365nm（i线）为主。

曝光强度：45 mW/cm²，曝光量：50 mJ/cm²（全面曝光用于测试基板）。

4. 显影

显影液：0.04% KOH水溶液。

显影方式：喷淋显影，水压0.05 MPa，23℃，80秒。

之后停止显影用纯水洗净，也可使用含界面活性剂的碱性水溶液或有机溶剂。

5. 热固化

温度：230℃，时间：30分钟（常规测试）。热固化后完成黑色矩阵。

黑色光刻胶遮光性能评价方法

光学密度(Optical Density,OD)是表征黑色矩阵遮光性能的常用光学参数,OD值越高,黑色矩阵遮光性能越高,防止彩色像素之间色彩干扰能力越强,图像的显示对比度越好。通常用单位膜厚光学密度（单位OD值，OD/μm）计算表示：OD/μm = 实测OD值 / 实测膜厚（μm），单位OD测试值≥ 4.0/μm以上，BM遮光性能优异。

测试步骤

光学密度（OD值）：使用Labodorf 351C透射密度计测量; 膜厚：白光干涉显微镜测量

1. 连接电源开机后用出厂随机标准光密度片进行调零校准，3点标准片OD值测量确认无误后，光密度仪准备完毕。

2. 将BM样品放到测量孔上方，按下测量臂，即得黑色光刻胶样品OD值。