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脉冲激光沉积系统

产品时间:2021-04-04
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被称为脉冲激光烧蚀(Pulsed laser ablation,PLA)指的是用激光使材料挥发,从而将材料镀在所要求的样品(衬底)上的薄膜沉积技术。PLD-301脉冲激光沉积系统是日本诚南工业根据客户的要求,在丰富经验的基础上设计制造的,采用PBN加热器,可将基板加热到1000℃以上,并采用氧气气氛,从而生产出高质量的薄膜。

脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被称为脉冲激光烧蚀(Pulsed laser ablation,PLA)指的是用激光使材料挥发,从而将材料镀在所要求的样品(衬底)上的薄膜沉积技术。PLD-301脉冲激光沉积系统是日本诚南工业根据客户的要求,在丰富经验的基础上设计制造的,采用PBN加热器,可将基板加热到1000℃以上,并采用氧气气氛,从而生产出高质量的薄膜。 

诚南工业PLD-301脉冲激光沉积系统设备配置  

薄膜沉积室
样品交换室
闸阀
闸阀(沉积室和样品交换室之间)
沉积室用真空计
样品交换室用真空计
沉积室排气系统
样品交换室排气系统
衬底加热系统
靶材台系统
激光镭射
台架

可选项
电子枪
衬底加热系统
手套箱
手套箱运送机构
基材温度测量用温度计
离子泵

诚南工业PLD-301脉冲激光沉积系统规格

沉积室中达到的真空度:1×10-6Pa以下
表面处理:电抛光(内表面镜面抛光后)
排气系统:涡轮分子泵+旋转泵,辅助阀、排气管道部件
样品交换室达到的真空度:1×10-4Pa或更低
表面处理:电抛光(内表面镜面抛光后)。
排气系统:涡轮分子泵+旋转泵,辅助阀、排气管道部件

诚南工业PLD-301脉冲激光沉积系统的使用:

先将真空室抽到一定真空度, 靶面与基片平行放置, 激光束经由石英透镜聚焦到旋转的目标靶材上, 靶材和试样托分别以一定速度自转,以保证沉积薄膜层的均匀性。

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