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日本EHC 平行光曝光系统HTE-510-EHC

产品时间:2022-05-05
日本EHC 平行光曝光系统HTE-510-EHC
平行光曝光系统
设计紧凑的平行光曝光系统。

日本EHC 平行光曝光系统HTE-510-EHC

平行光曝光系统

设计紧凑的平行光曝光系统。

这种准直镜式平行光曝光系统使用一个超高压汞灯作为点光源。 主要部件由光源、吸式曝光台和面罩单元组成,曝光方式可以是真空接触(硬接触)曝光方式。 也可根据要求提供接近系统。

对于曝光控制,安装了一个集成的测光表,以方便设置正确的曝光量。

基本信息

日本EHC 平行光曝光系统HTE-510-EHC

基本规格。

工件尺寸:150毫米×150毫米,厚度约0.1 - 1.0毫米

光学性能:超高压汞灯1KW(风冷),波长约300-470纳米(主波长365、405、436纳米)。

紫外线照度约为40 mw/cm^2的初始值(@365 nm),照度分布为90% min。

射线平行度:准直半角≤1.5°,倾角≤1.0°。

曝光快门:用空气驱动的快门打开/关闭

曝光控制:取决于集成测光表(控制波长为365纳米),20通道记忆

面罩(基本): □8英寸玻璃面罩,3.0毫米或5.0毫米厚

曝光台:吸气台,前/后可移动,内置真空泵

上层框架类型:专用玻璃罩框架或麦拉框架

公用设施:电源3相200V 50/60 Hz,断路器开关30A,10.5KVA

       压力空气约0.5 Mpa

       废气:约8 m^3/min

外部尺寸:(W)800mmx(D)1470mmx(H)1915mm



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